真空腔體幾種表面處理方法(不銹鋼牌號學成分.doc)
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真空腔體幾種表面處理方法
化學拋光是讓材料在化學介質中表面微觀凸出的部分較凹部分優先溶解,從而得到平滑面。
這種方法的主要優點是不需復雜設備,可以拋光形狀復雜的工件,可以同時拋光很多工件,效率高。
化學拋光得到的表面粗糙度一般為數10μm。
電解拋光基本原理與化學拋光相同,即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。
與化學拋光相比,可以消除陰極反應的影響,效果較好。
電化學拋光過程分為兩步:(1)宏觀整平溶解產物向電解液中擴散,材料表面幾何粗糙下降,Ra>1μm。
(2)微光平整陽極極化,表面光亮度提高,Ra<1μm。
作為拋光的新工藝,在很多種類金屬零部件加工方面具有獨特的優勢。
可替代傳統的磨床、滾壓、鏜滾、珩磨、拋光機、砂帶機等其它金屬表面光整加工設備及工藝;使金屬工件高光潔度加工變得易如反掌。
豪克能不僅僅可以拋光,還可以帶來很多附加的好處:可使被加工工件表面光潔度提高3級以上(粗糙度Ra值輕松達到0.2以下);且工件的表面顯微硬度提高20%以上;并大大提高了工件的表面耐磨性和耐腐蝕性。
豪克能可用于處理各種不銹鋼及其它金屬工件。
將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場中,依靠超聲波的振蕩作用,使磨料在工件表面磨削拋光。
超聲波加工宏觀力小,不會引起工件變形,但工裝制作和安裝較困難。
在溶液腐蝕、電解的基礎上,再施加超聲波振動攪拌溶液,使工件表面溶解產物脫離,表面附近的腐蝕或電解質均勻;超聲波在液體中的空化作用還能夠抑制腐蝕過程,利于表面光亮化。
不銹鋼牌號學成分.doc
不銹鋼牌號及化學成分(摘自GB/T12201992)。
牌號化學成分(質量分數),%C(碳)Si(硅)Mn(錳)P(磷)S(硫)Ni(鎳)Cr(鉻)Mo(鉬)其他1Cr17Mn6Ni5N≤0.15≤1.005.50~7.50≤0.060≤0.0303.50~5.5016.00~18.00N:≤0.251Cr18Mn8Ni5N≤0.15≤1.007.50~10.00≤0.060≤0.0304.00~6.0017.00~19.00N:≤0.251Cr18Mn10Ni5Mo3N≤0.10≤1.008.50~12.00≤0.060≤0.0304.00~6.0017.00~19.002.8~3.5N:0.20~0.301Cr17Ni7≤0.15≤1.00≤2.00≤0.035≤0.0306.00~8.0016.00~18.001Cr18Ni9≤0.15≤1.00≤2.00≤0.035≤0.0308.00~10.0017.00~19.00Y1Cr18Ni9≤0.15≤1.00≤2.00≤0.020≥0.158.00~10.0017.00~19.00Y1Cr18Ni9Se≤0.15≤1.00≤2.00≤0.020≤0.0608.00~10.0017.00~19.00Se:≥0.150Cr18Ni9≤0.07≤1.00≤2.00≤0.035≤0.0308.00~11.0017.00~19.0000Cr19Ni10≤0.03≤1.00≤2.00≤0.035≤0.0308.00~12.0018.00~20.000Cr19Ni9N≤0.08≤1.00≤2.00≤0.035≤0.0307.00~10.5018.00~20.00N:0.10~0.250Cr19Ni10NbN≤0.08≤1.00≤2.00≤0.035≤0.0307.00~10.5018.00~20.00Nb:≤0.15。
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