銅鎳合金的用途及特性介紹(一種鉑鎳合金濺射靶材及其制備方法與流程)

博主:adminadmin 2022-12-05 13:08:01 條評論
摘要:今天給各位分享銅鎳合金的用途及特性介紹的知識,其中也會對一種鉑鎳合金濺射靶材及其制備方法與流程進行分享,希望能對你有所幫助!本文導讀目錄:1、銅鎳合金的用途及特性介紹2、一種鉑鎳合金濺射靶材及其制備方法與流程3...

今天給各位分享銅鎳合金的用途及特性介紹的知識,其中也會對一種鉑鎳合金濺射靶材及其制備方法與流程進行分享,希望能對你有所幫助!

本文導讀目錄:

銅鎳合金的用途及特性介紹(一種鉑鎳合金濺射靶材及其制備方法與流程)

1、銅鎳合金的用途及特性介紹

2、一種鉑鎳合金濺射靶材及其制備方法與流程

3、錫鎳合金電鍍工藝的研究

銅鎳合金的用途及特性介紹

  銅鎳這兩種材料之間是可以進行無限的凝固和融化的,它們可以形成連續(xù)的固體和溶體。

  它們之間固溶的比例是可以不等的,不像一些合金,必須有一定的比例才能制作成功。

  鎳的含量越多,制造出來的銅鎳合金的顏色就會越偏向白銀,隨著鎳的含量上升,銅鎳合金會越來越偏向白色。

  但銅鎳合金畢竟是合金,兩者之間的含量也是有一定的比例的,一般鎳的含量不會超過總含量的25%。

  另外,銅鎳合金呈現(xiàn)出的顏色是銀白色的,所以銅鎳合金也可以稱之為白銅。

  另外,銅鎳合金的延展性是非常好的,所以它可以用在造船和石油化工上。

  一些電器和儀表也會利用銅鎳合金的可延展性而進行零件的制造。

  銅鎳合金運用比較多的是在工業(yè)制作上,一些閥門和一些精密電阻零件會使用銅鎳合金來打造。

一種鉑鎳合金濺射靶材及其制備方法與流程

  用加速的離子轟擊固體表面,離子和固體表面原子交換動量,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,這一過程稱為濺射。

  被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的源(source)材料,通常稱為靶材。

  用靶材濺射沉積的薄膜致密度高,與基材之間的附著性好。

  為解決上述技術問題,本發(fā)明所采用的技術方案如下:。

  申請人經(jīng)研究發(fā)現(xiàn),上述靶材與硅反應,形成的硅化物在器件工作溫度下穩(wěn)定,耐熱性好,并主要表現(xiàn)金屬型導電性能,該產(chǎn)品能完美的解決了NiSi存在的問題;鉑(Pt)金屬具有較高的功函數(shù)(5.65eV),其費米能級接近于半導體,能夠在p型Si上面獲得較低的功函數(shù)差,利用鎳(Ni)和鉑(Pt)形成合金可以用來調(diào)節(jié)功函數(shù),且在鎳(Ni)中添加一定量的鉑(Pt)能大幅提高高溫穩(wěn)定性。

  為了進一步保證產(chǎn)品的高強度、高耐溫和高耐酸等綜合性能,鉑的純度為99.99%以上,所述百分比為質(zhì)量百分比。

  鎳的純度為99.9%以上,所述百分比為質(zhì)量百分比。

  為了保證產(chǎn)品的綜合性能,上述清洗為分別將鎳片和鉑片進行如下操作:線切割、除油、酸洗,然后在超聲波清洗器中依次用丙酮、乙醇和去離子水各清洗52min,最后烘干備用。

  為了保證產(chǎn)品的硬度、均勻性等綜合性能,鑄態(tài)為將清洗后的鎳和鉑按配比裝入坩堝進行真空熔煉、澆鑄獲得NiPt鑄錠;均勻化退火為將NiPt鑄錠放入真空箱式退火爐在80020℃下進行均勻化退火處理,真空度為-0.1Mpa,時長為50.2h。

  優(yōu)選,磁控濺射參數(shù):工作氣體為氬氣,功率250W,濺射氣壓為2.5Pa。

  本發(fā)明鉑鎳合金濺射靶材,可在高強度、高耐溫、高耐酸等高性能要求的半導體、顯示屏器、記錄介質(zhì)等中應用;制備方法簡單易實行,且進一步保證了靶材的均勻性、硬度、塑形流變等性能。

  圖2為實施例1中清洗+鑄態(tài)+溫軋的金相圖。

  圖4為實施例1中清洗+鑄態(tài)+溫軋的電鏡圖。

  為了更好地理解本發(fā)明,下面結合實施例進一步闡明本發(fā)明的內(nèi)容,但本發(fā)明的內(nèi)容不僅僅局限于下面的實施例。

  鉑鎳合金濺射靶材的制備方法,包括順序相接的如下步驟:。

  B、鑄態(tài):將清洗后的鎳和鉑按配比裝入坩堝進行真空熔煉、澆鑄獲得NiPt鑄錠;。

  D、溫軋:在450℃下進行溫軋,道次變形量為40%,總變形量為80%,合金的最終厚度為1mm,溫軋后采用線切割制成的靶材。

  各步驟對產(chǎn)品性能的影響:通過實驗發(fā)現(xiàn),清洗+鑄態(tài)+均勻化退火+溫軋的合金硬度由292上升至439,約為軋制前的2倍;清洗+鑄態(tài)+溫軋的硬度也得到了顯著提高(為423),但其硬度強化效果低于有均勻化退火后溫扎的樣品;而清洗+鑄態(tài)+均勻化退火的合金硬度由292下降至218,可見溫扎是一種強化NiPt合金的有效方法,且清洗+鑄態(tài)+均勻化退火+溫軋的效果最佳。

  對靶材濺射后的掃描電鏡表面形貌圖像(見圖3-4)進行分析:清洗+鑄態(tài)+均勻化退火+溫軋的合金在濺射后,表面呈高低起伏狀態(tài),整體形貌比較均勻。

  清洗+鑄態(tài)+溫軋的合金在濺射后,左邊呈大小不一的凹坑,而右邊則相對比較平滑,整體形貌不均勻。

  一種鉑鎳合金濺射靶材,包括鉑70%和鎳30%,所述百分比為質(zhì)量百分比。

  通過實驗對比發(fā)現(xiàn)其金相圖和電鏡圖與實施例1接近,不重復提供。

  吉布斯自由能改變量△G=-2.63J/mol,相比實施例1|△G|更低,更能增加鎳硅化合物薄膜的熱穩(wěn)定性。

錫鎳合金電鍍工藝的研究

  本文以電化學方法對氟化物體系電鍍錫鎳合金的工藝進行了研究,從實踐中發(fā)現(xiàn)使用添加劑T時,可使工藝的。

  錫鎳合金以其優(yōu)良的外觀及優(yōu)異的性能被廣泛應用于工業(yè)和日常生活中。

  隨著科技的發(fā)展和人們對鍍層性能要求的提高,傳統(tǒng)電鍍錫鎳合金工藝不斷得到改善和發(fā)展。

  以鍍液綠色無污染,工藝配方簡單,工作范圍廣,易操作及高質(zhì)量為目標,本文采用一個簡單的焦磷酸鹽溶液體系,研究了在銅基體上電沉積錫鎳合金的工藝條件以及合金鍍層的耐腐蝕性能。

  實驗通過動電位掃描法研究了焦磷酸鹽溶液體系在銅電極上電沉積錫鎳合金的電化學行為,并分析了焦磷酸鹽、輔助配位劑和不同添加劑對電沉積錫鎳合金陰極過程的影響。

  結果表明:配位劑起絡合金屬離子,增大陰極極化的作用;輔助配位劑的加入可擴大光亮區(qū)的電流密度范圍、促進Sn-Ni合金共沉積;添加劑NH_4Cl使金屬離子析出電位正移,具有明顯的去極化作用,有利于金屬共沉積;糖精鈉對金屬離子的析出具有均勻阻化作用。

  通過赫爾槽實驗和恒流實驗,研究了鍍液組成及工藝條件對焦磷酸鹽電鍍錫鎳合金組成的影響。

  結果表明:電沉積的鍍液配方組成以及操作參數(shù)均對..。

  本文以發(fā)黑劑或其它作為黑鎳合金工藝分類的依據(jù),逐一介紹了黑鎳合..。

  文章介紹了鎳及鎳合金的材料學基礎知識、典型用途、市場需求,以及國內(nèi)鎳產(chǎn)業(yè)的發(fā)展狀況,著重介紹了目前陜..。


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