本篇文章給大家談談真空鍍膜si是什么材料，以及真空鍍膜英文對應的知識點，希望對各位有所幫助。

真空鍍膜AFS是什么材料

古德邦車標（goodbong）為你解答：

你說的AFS是錯誤的，應該是ABS材質吧，真空鍍膜多用于亞克力（PMMA）和ABS或者PC等塑料材質。

ABS和PMMA材質真空鍍膜：

塑料電鍍產品和金屬電鍍件相比，具有輕質、易加工、表面光澤性和整平性好等優點，在汽車、摩托車、五金、日常家用品等方面有廣泛的用途，而且應用領域會越來越廣，對電鍍質量的要求也會越來越高。電鍍完畢后，每一件產品必須拿到燈光檢驗臺進行打光檢測，確保鍍的顏色一致及鍍膜無漏光、無污染、無麻點。外鍍的質保期是3年，使用期限為3~5年；內鍍的質保期是4年，使用期限為4~6年。參考資料：

真空噴鍍金屬需要與塑料表面底漆之間的良好配合，底漆的厚度通常為 10—20m，主要作用是防止塑料中水、有機溶劑、增塑劑等排出影響金屬附著。要求涂層硬度高、底漆具有可以修飾塑料缺陷，能提供一個光滑、平整的平面以利于真空鍍的性能，并與塑料底材和所鍍金屬附著牢固。通常選用雙組分常溫固化的聚氨酯和環氧涂料，低溫烘烤的氨基涂料以及熱塑性丙烯酸酯涂料。

什么叫真空鍍膜

真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

一、鍍膜的方法及分類

在真空條件下成膜有很多優點：可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發源與基板距離較遠和薄膜質量要求很高的場合，則要求壓力更低。

主要分為一下幾類：

蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

蒸發鍍膜：通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。這種方法最早由M.法拉第于1857年提出，現代已成為常用鍍膜技術之一。

蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米。膜厚決定于蒸發源的蒸發速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。

蒸發源有三種類型。①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發物質。電阻加熱源主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高頻感應加熱源：用高頻感應電流加熱坩堝和蒸發物質。③電子束加熱源：適用于蒸發溫度較高（不低于2000[618-1]）的材料，即用電子束轟擊材料使其蒸發。

蒸發鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質和不易熱分解的化合物膜。

為沉積高純單晶膜層，可采用分子束外延方法。生長摻雜的GaAlAs單晶層的分子束外延裝置。噴射爐中裝有分子束源，在超高真空下當它被加熱到一定溫度時，爐中元素以束狀分子流射向基片。基片被加熱到一定溫度，沉積在基片上的分子可以徙動，按基片晶格次序生長結晶用分子束外延法可獲得所需化學計量比的高純化合物單晶膜，薄膜最慢生長速度可控制在1單層／秒。通過控制擋板,可精確地做出所需成分和結構的單晶薄膜。分子束外延法廣泛用于制造各種光集成器件和各種超晶格結構薄膜。

濺射鍍膜：用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面，沉積在基片上。濺射現象于1870年開始用于鍍膜技術，1930年以后由于提高了沉積速率而逐漸用于工業生產。通常將欲沉積的材料制成板材——靶,固定在陰極上。基片置于正對靶面的陽極上,距靶幾厘米。系統抽至高真空后充入 10-1帕的氣體（通常為氬氣），在陰極和陽極間加幾千伏電壓，兩極間即產生輝光放電。放電產生的正離子在電場作用下飛向陰極，與靶表面原子碰撞，受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。與蒸發鍍膜不同，濺射鍍膜不受膜材熔點的限制,可濺射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等難熔物質。濺射化合物膜可用反應濺射法，即將反應氣體 (O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應氣體及其離子與靶原子或濺射原子發生反應生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉積在基片上。沉積絕緣膜可采用高頻濺射法。基片裝在接地的電極上，絕緣靶裝在對面的電極上。高頻電源一端接地，一端通過匹配網絡和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。接通高頻電源后，高頻電壓不斷改變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負半周分別打到絕緣靶上。由于電子遷移率高于正離子，絕緣靶表面帶負電，在達到動態平衡時，靶處于負的偏置電位，從而使正離子對靶的濺射持續進行。采用磁控濺射可使沉積速率比非磁控濺射提高近一個數量級。

離子鍍：蒸發物質的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。這種技術是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發與陰極濺射技術的結合。一種離子鍍系統如圖4[離子鍍系統示意圖],將基片臺作為陰極，外殼作陽極，充入惰性氣體（如氬）以產生輝光放電。從蒸發源蒸發的分子通過等離子區時發生電離。正離子被基片臺負電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子（約占蒸發料的95％）也沉積在基片或真空室壁表面。電場對離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和氬離子對基片的濺射清洗作用，使膜層附著強度大大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點，并有很好的繞射性，可為形狀復雜的工件鍍膜。

二、薄膜厚度的測量

隨著科技的進步和精密儀器的應用，薄膜厚度測量方法有很多，按照測量的方式分可以分為兩類：直接測量和間接測量。直接測量指應用測量儀器，通過接觸（或光接觸）直接感應出薄膜的厚度。

常見的直接法測量有：螺旋測微法、精密輪廓掃描法（臺階法）、掃描電子顯微法（SEM）；

間接測量指根據一定對應的物理關系，將相關的物理量經過計算轉化為薄膜的厚度，從而達到測量薄膜厚度的目的。

常見的間接法測量有：稱量法、電容法、電阻法、等厚干涉法、變角干涉法、橢圓偏振法。按照測量的原理可分為三類：稱量法、電學法、光學法。

常見的稱量法有：天平法、石英法、原子數測定法；

常見的電學法有：電阻法、電容法、渦流法；

常見的光學方法有：等厚干涉法、變角干涉法、光吸收法、橢圓偏振法。

下面簡單介紹三種：

1. 干涉顯微鏡法

干涉條紋間距0，條紋移動，臺階高為t=(/0 )*0.5，測出0 和，即可，其中為單色光波長，如用白光，取 530nm。

2. 稱重法

如果薄膜面積A，密度和質量m可以被精確測定的話，膜厚t就可以計算出來：

d=m/A。

3 石英晶體振蕩器法

廣泛應用于薄膜淀積過程中厚度的實時測量，主要應用于淀積速度，厚度的監測，還可以反過來（與電子技術結合）控制物質蒸發或濺射的速率，從而實現對于淀積過程的自動控制。

對于薄膜制造商而言，產品的厚度均勻性是最重要的指標之一，想要有效地控制材料厚度，厚度測試設備是必不可少的，但是具體要選擇哪一類測厚設備還需根據軟包材的種類、廠商對厚度均勻性的要求、以及設備的測試范圍等因素而定。

三、真空鍍膜機保養知識：

1. 關閉泵加熱系統，然后分離蒸鍍室（主要清潔灰塵，于蒸鍍殘渣）

2. 關閉電源或程序打入維護狀態

3. 清潔卷繞系統（幾個滾軸，方阻探頭，光密度測量器）

4. 清潔中罩室（面板四周）

5. 泵系統冷卻后打開清潔（注意千萬不能掉入雜物，檢查泵油使用時間與量計做出更換或添加處理）

6. 檢查重冷與電氣柜設備

這次實習給了我們了解了鍍膜技術的原理、技術，使我們了解了工廠的生產，感覺很新穎，收獲很多。

真空鍍膜和光學鍍膜使用方法和常用材料分別有什么不同？

1、真空鍍膜的方法材料:

(1)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面,凝結而成薄膜.

(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對面,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內,保持壓強約1.33~13.3Pa,然后將陰極接上2000V的直流電源,便激發輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜.

(3)化學氣相沉積:通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物,獲得沉積薄膜的過程.

(4)離子鍍:實質上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合,兼有兩者的工藝特點.

2、常見的光學鍍膜材料：

(1)氟化鎂:無色四方晶系粉末,純度高,用其制光學鍍膜可提高透過率,不出崩點.

(2)二氧化硅:無色透明晶體,熔點高,硬度大,化學穩定性好.純度高,用其制備高質量Si02鍍膜,蒸發狀態好,不出現崩點.按使用要求分為紫外、紅外及可見光用.

(3)氧化鋯:白色重質結晶態,具有高的折射率和耐高溫性能,化學性質穩定,純度高,用其制備高質量氧化鋯鍍膜,不出崩點.

真空鍍膜所需的原料是什么？以及鍍膜前必須進行的準備工作又是什么？

蒸鍍，磁控濺射，化學沉積等。。。蒸鍍分鎢絲舟石墨舟等載體加熱和電子槍加熱，磁控分直流，中頻，射頻等（這里只介紹生產用的）化學氣相那更多，關注較最多的是PECVD，其他的有MOCVD，LPLDcvd。。。等等都是通過溫度和電磁來把氣體變成固體附著在基體上。

你問的應該是蒸鍍。所需原來就是那想要附著在你的工件上的材料。例如，你想在工件上鍍上白亮的鋁，那你的原料就是純度高點的鋁；你想在工件上鍍上白亮的鉻，那你的原料就是純度高點的鉻；。。。。鍍膜錢請確保你的工件表面的處理是良好的干凈的。。。

光學真空鍍膜材料有哪些

一.光學鍍膜材料（純度：99.9%-99.9999%）

1. 氧化物 技術指標

一氧化硅，二氧化鉿，二氧化鋯，二氧化鈦，一氧化鈦，二氧化硅，三氧化二鈦

? 五氧化三鈦，五氧化二鉭，五氧化二鈮，三氧化二鋁，三氧化二鈧，三氧化二銦

? 二氧化硅，二鈦酸鐠，二氧化鈰，氧化鎂，三氧化鎢，氧化釤，氧化釹，氧化鉍

? 氧化鐠，氧化銻，氧化釩，氧化鎳，氧化鋅，氧化鐵，氧化鉻，氧化銅

2. 氟化物 技術指標

? 氟化鎂，氟化鑭,氟化鐿，氟化釔，氟化鏑，氟化釹，氟化鉺，氟化鏑，氟化鉀 氟化鍶,氟化釤,氟化釹，氟化鈉，氟化鋇，氟化鈰

3. 金屬類 技術指標

4. 混合料 技術指標

? 氧化鋯氧化鈦混合料，氧化鋯氧化鉭混合料，氧化鈦氧化鉭混合料

? 氧化鋯氧化釔混合料，氧化鈦氧化鈮混合料，氧化鋯氧化鋁混合料

? 氧化鎂氧化鋁混合料，氧化銦氧化錫混合料，氧化錫氧化銦混合料

? 氟化鈰氟化鈣混合料

5. 其他化合物 技術指標

? 鈦酸鋇，鈦酸鐠，鈦酸鍶，鈦酸鑭，硫化鋅，冰晶石，硒化鋅，硫化鎘

氮化硅，碳化硅，碳化硅，碳化鉿，氮化鈦，氮化鋁，二硼化鈦，二硼化鋯

sic鍍膜的用處

1、汽車鍍膜具有抗氧化、防老化的作用，施工后在車漆表面形成堅硬的無機（二氧化硅玻璃晶體）鍍膜層，與車漆緊密結合，提高漆面硬度和平滑度，將漆面與空氣完全隔絕，并且無外力因素永不脫落。

2、能夠大大的提高車漆表面清漆的光澤度，使車漆看上去更加鮮艷、光彩奪目。

3、耐腐蝕。堅硬的非有機（玻璃晶體）膜層自身不會氧化的同時也防止外界的酸雨、飛蟲、鳥糞等對車漆的腐蝕致密的玻璃晶體膜具有超強抗腐蝕性，鍍膜能有效防止酸雨等腐蝕性物質對車漆造成的損害，同時防止車漆的褪色。

4、耐高溫。玻璃晶體本身具有耐高溫的特質，能有效反射陽光將外部的熱輻射進行有效反射，防止高溫對車漆的傷害。

5、防劃痕。堅硬的非有機（玻璃晶體）膜層可以將車體表面的硬度提高到 7H ，遠高于車蠟或釉 2H-4H 的硬度，能更好的保護車漆不受沙礫的傷害。

關于真空鍍膜si是什么材料和真空鍍膜英文的介紹到此就結束了，記得收藏關注本站。