包含Ti靶材是什么材質(zhì)的詞條
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濺射靶材的介紹
濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高,一般要求如,尺寸、平整度、純度、各項(xiàng)雜質(zhì)含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;較高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物(氧化物)含量與尺寸、導(dǎo)磁率、超高密度與超細(xì)晶粒等等。磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式,就是用電子槍系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上,使其被濺射出來的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。 濺射靶材有金屬,合金,陶瓷,硼化物等。
鍍膜材料常用的都有哪些?
金屬靶材:鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Su、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、碳靶C、釩靶V、銻靶Sb、銦靶In、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、硅靶Si、鉭靶Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鋯靶Zr、鉻靶Cr、不銹鋼靶材S-S、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge等…… 稀土金屬靶:釔靶Y、鏑靶Dy、鈥靶Ho、鉺靶Er、銩靶Tm、鑭靶La、鈰靶Ce、鐠靶Pr、釹靶Nb、釤靶Sm、銪靶Eu、釓靶Gb、鋱靶Tb、鐿靶Yb、镥靶Lu等... 稀土陶瓷靶:氧化鉺Er2O3靶、氧化銩靶Tm2O3、氧化鈥靶Ho2O3、氧化銪靶Eu2O3、氧化鑭靶La2O3、氧化鈰靶CeO2、氧化鐠靶Pr6O11、氧化釹Nd2O3、氧化釤靶Sm2O3、氧化釹靶Nd2O3…. 合金靶材:鐵鈷靶FeCo、鋁硅靶AlSi、鈦硅靶TiSi、鉻硅靶CrSi、鋅鋁靶ZnAl、鈦鋅靶材TiZn、鈦鋁靶TiAl、鈦鋯靶TiZr、鈦硅靶TiSi、 鈦鎳靶TiNi、鎳鉻靶NiCr、鎳鋁靶NiAl、鎳釩靶NiV、鎳鐵靶NiFe等…… 陶瓷靶材:ITO靶,一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2,三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、五氧化二鉭靶Ta2O5,五氧化二鈮靶Nb2O5,氧化鋅靶ZnO、氧化鋯靶ZrO、氧化鎂靶MgO、單晶硅靶、多晶硅靶.、氟化鎂靶MgF2、氟化鈣靶CaF2、氟化鋰靶LiF、氟化鋇靶BaF3,碳化硼靶B4C,氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC,硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、硒化鋅靶ZnSe、砷化鎵靶、磷化鎵靶、錳酸鋰靶,鎳鈷酸鋰靶,鉭酸鋰靶,鈮酸鋰靶,氧化鋅鎵靶,氧化鋅硼靶等…
鍍膜靶材材料成分
鍍膜靶材材料成分分2種:
1. 金屬靶材:
1. 金屬靶材:
鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。
2. 陶瓷靶材
ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶,、二氧化鉿靶,二硼化鈦靶,二硼化鋯靶,三氧化鎢靶,三氧化二鋁靶五氧化二鉭,五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化鈦靶,碳化硅靶,鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。
靶材是什么
靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時(shí),會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。
鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。
材質(zhì)分類:
⒈金屬靶材
鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。
⒉陶瓷靶材
ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶,、二氧化鉿靶,二硼化鈦靶,二硼化鋯靶,三氧化鎢靶,三氧化二鋁靶五氧化二鉭,五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化鈦靶,碳化硅靶,鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。
⒊合金靶材
鐵鈷靶FeCo、鋁硅靶AlSi、鈦硅靶TiSi、鉻硅靶CrSi、鋅鋁靶ZnAl、鈦鋅靶材TiZn、鈦鋁靶TiAl、鈦鋯靶TiZr、鈦硅靶TiSi、 鈦鎳靶TiNi、鎳鉻靶NiCr、鎳鋁靶NiAl、鎳釩靶NiV、鎳鐵靶NiFe等。
百度百科
Ti是什么材料
Ti是鈦的化學(xué)元素符號(hào)。
鈦是一種化學(xué)元素,化學(xué)符號(hào)Ti,原子序數(shù)22,在化學(xué)元素周期表中位于第4周期、第IVB族。是一種銀白色的過渡金屬,其特征為重量輕、強(qiáng)度高、具金屬光澤,耐濕氯氣腐蝕。
鈦被認(rèn)為是一種稀有金屬,這是由于在自然界中其存在分散并難于提取。但其相對(duì)豐富,在所有元素中居第十位。 鈦的礦石主要有鈦鐵礦及金紅石,廣布于地殼及巖石圈之中。鈦亦同時(shí)存在于幾乎所有生物、巖石、水體及土壤中。從主要礦石中萃取出鈦需要用到克羅爾法 或亨特法。鈦?zhàn)畛R姷幕衔锸嵌趸仯捎糜谥圃彀咨伭稀F渌衔镞€包括四氯化鈦(TiCl4)(作催化劑及用于制造煙幕或空中文字)及三氯化鈦(TiCl3)(用于催化聚丙烯的生產(chǎn))。
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